碳納米管的製備

隨著碳納米管及納米材料研究的深入，廣闊的應用前景，如何製備碳納米管的大批生產(chan) 工藝也不斷地展現出來，今天我們(men) 再來一起回顧與(yu) 領略碳納米管的製備方法及碳納米管生產(chan) 設備：

1、石墨電弧法：是最早的、最典型的碳納米管合成方法。

基本原理：電弧室充惰性氣體(ti) 保護，兩(liang) 石墨棒電極靠近，拉起電弧，再拉開，以保持電弧穩定。放電過程中陽極溫度相對陰極較高，所以陽極石墨棒不斷被消耗，同時在石墨陰極上沉積出含有碳納米管的產(chan) 物。

2、浮動催化法：是目前使用最多和最有希望實現批量生產(chan) 的工藝之一

基本原理：將有機氣體(ti) (如乙炔、乙烯等)混以一定比例的氮氣作為(wei) 壓製氣體(ti) ，通入事先除去氧的石英管中，在一定的溫度下，在催化劑表麵裂解形成碳源，碳源通過催化劑擴散，在催化劑後表麵長出碳納米管，同時推著小的催化劑顆粒前移。直到催化劑顆粒全部被石墨層包覆，碳納米管生長結束。

3、 激光蒸汽法：在氬氣氣流中，用雙脈衝(chong) 激光蒸發含有Fe／Ni(或Co／Ni)的碳靶方法製備出直徑分布範圍在0.81—1.51nm的單壁碳納米管。該法製備的碳納米管純度達70~90％，基本不需要純化，但其設備複雜、能耗大、投資成本高。

4、碳納米管生產(chan) 設備：日新高溫的製備

日新高溫與(yu) 中國科學技術大學、北京化工大學和合肥工業(ye) 大學進行產(chan) 學研究，聯合成立了實驗基地。日新盛德，日新高溫關(guan) 於(yu) 碳納米管係列生產(chan) 裝備：

NO.1——CVD係列真空氣氛管式爐廣泛適用於(yu) 高、中、低溫的CVD工藝，如：碳納米管的製備、晶體(ti) 矽基板鍍膜、納米氧化鋅結構的可控生長等等；也可適用於(yu) 金屬材料的擴散焊接及真空或保護氣氛下的熱處理。主要運用於(yu) 冶金、玻璃、熱處理、鋰電正負極、新能源、模具等行業(ye) 。

CVD係列真空氣氛管式爐的主要特點：

1、爐膛采用高純石英管或剛玉管，三麵封裝易拆卸；

2、整體(ti) 質量輕、能耗低；

3、智能溫控係統，控溫精度精確，穩定性強！

NO.2——RTG2X係列碳納米管生產(chan) 設備設計主要用於(yu) 碳納米管的生產(chan) 與(yu) 實驗，同時也可適用於(yu) 其他碳材料等生產(chan) 工藝的熱處理之用。與(yu) 多家科研院所聯合開發，針對性強、性能穩定、並已實現批量化生產(chan) 。

RTG2X係列碳納米管生產(chan) 設備的主要特點：

1、多爐膛、生產(chan) 效率高；

2、密封操作平台，設有快速冷卻係統；

3、自動上、下料的無人值守自動化生產(chan) 線，國內(nei) 領先技術；

4、機械手自動啟閉門與(yu) 光柵傳(chuan) 感器及接近開關(guan) 來完成碳納米管生產(chan) 過程中的精確計量與(yu) 上下料。